Товары

ESC-PCO288-T2 Шкаф отверждения под давлением（печь отверждения под давлением） компании Essenscien — прецизионное оборудование для термообработки распространенного типоразмера 288L для корпусирования модулей связи 5G, силовых полупроводников IGBT и масштабного производства Mini-LED. Ключевая возможность — регулирование высокого давления 10kg/cm². Физическое воздействие высокого давления устраняет пустоты при капиллярном заполнении（CUF）и полностью удаляет пузырьки в процессе корпусирования, существенно повышая эффективность теплоотвода компонентов и надежность длительной эксплуатации.

ESC-PCO640-T2 Шкаф отверждения под давлением（печь отверждения под давлением） компании Essenscien — прецизионное флагманское оборудование большой вместимости 640L для корпусирования силовых полупроводниковых модулей IGBT, передового корпусирования（2.5D/3D IC）и отверждения с удалением пузырьков из крупных электронных узлов. Ключевая возможность — регулирование высокого давления 10kg/cm². Его физическое воздействие устраняет пустоты при капиллярном заполнении（CUF）и заливке эпоксидной смолой, полностью удаляя пузырьки и существенно повышая эффективность теплоотвода чипов и надежность длительной эксплуатации.

ESC-PCO96-T2 Шкаф отверждения под давлением（печь отверждения под давлением） компании Essenscien — компактное прецизионное оборудование объемом 96L для корпусирования силовых полупроводников IGBT, разработки датчиков MEMS и удаления пузырьков из материалов передового корпусирования. Ключевая возможность — регулирование высокого давления 10kg/cm². Его физическое воздействие полностью устраняет пустоты и пузырьки в процессе корпусирования, существенно повышая эффективность теплоотвода чипов и надежность длительной эксплуатации.

ESC-LCO423-T5 Беспылевой безокислительный шкаф компании Essenscien — высокопроизводительное промышленное оборудование для термообработки объемом 423L для модулей связи 5G, прецизионных металлических деталей и биохимического и медицинского оборудования. Поддерживается высокотемпературная работа класса T5 до 500℃. Применяется прецизионный алгоритм PID. Точность регулирования температуры — ±0.1℃. Равномерность температурного поля — ±2.0%. Обеспечивается тепловая согласованность дорогостоящих образцов в экстремальной температурной среде.