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安勝 ESC-NVO1000-T6 窒素導入真空オーブン は、ディスプレイパネルおよび大量の産業用部品向けに設計されたフラッグシップ超大型熱処理装置です。 超高温運転に対応し、最高温度は 600℃ です。 広い有効容積は 1m³（1000L） です。 温度制御精度は ±0.5℃ です。 中核技術として多翼型大風量循環システムと動的補償アルゴリズムを採用し、超大型チャンバーの温度均一性の課題を効果的に解決します。 包括的な安全インターロックと水・電気・ガスのリアルタイム監視を備え、改ざんできない生産記録のワンクリック出力に対応します。厳格な適合性監査要件を満たし、効率的で透明性の高い世界水準のスマート熱処理センターの構築を支援します。

安勝 ESC-NVO125-T6 窒素導入真空オーブン は、精密電子機器および半導体の研究開発向けに設計された125L の中型熱処理装置です。 T6 超高温運転に対応し、最高温度は 600℃ です。 PID 精密制御アルゴリズムを採用しています。 温度制御精度は ±0.5℃ です。 非常に安定した温度環境を実現します。 中核技術には <20ppm への急速な酸素低減、窒素予熱、強制送風システムが含まれます。窒素導入中の精密試料の酸化防止と、複雑な部品の加熱むらの課題を効果的に解決します。 高密度セラミックファイバー断熱材で大幅な省エネルギーを実現し、温度・圧力のデジタルリアルタイム記録機能も備えています。半導体・医薬品業界の厳格な適合性監査要件に対応し、研究と試作生産に安全で理想的な、全工程を追跡できる優れた温度環境を提供します。

安勝 ESC-NVO216-T6 窒素導入真空オーブン は、半導体 IGBT のパッケージングおよびパワーモジュールの硬化向けに設計された中・大型装置です。 超高温運転に対応し、最高温度は 600℃ です。 チャンバー容積は 216L です。 温度制御精度は ±0.5℃ です。 中核技術は、15分以内に酸素濃度を 20ppm 未満へ下げる急速酸素低減と、熱衝撃を解消する窒素予熱システムです。酸化欠陥を防止し、高い温度分布の均一性を確保します。 精密な窒素節約バルブを装備し、運用コストを 25% 削減できます。 データの監査追跡に対応し、改ざんできない温度・圧力の履歴記録をワンクリックで出力できます。研究と試作生産に安全で理想的な、全工程を追跡できる熱処理環境を提供します。

安勝 ESC-NVO27-T6 は、実験室の精密熱処理向けに設計された 27L の卓上型窒素導入真空オーブンです。 最高 600℃ の超高温運転と ±0.5℃ の温度制御精度を実現します。パージ式酸素低減システムにより、15分以内に酸素濃度を 20ppm 未満へ下げ、微量試料の酸化を防ぎます。スマート管理、多段階の権限制御、改ざんできない履歴の出力により、生産の安全性と追跡性を確保します。小型設計と優れた温度分布性能を備え、特殊セラミックの精密焼結などの研究開発に適しています。