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安勝 ESC-IGO640-T6 無酸化オーブン は、ディスプレイパネルの大型部品、半導体、特殊電子部品向けに設計された640L のフラッグシップ精密熱処理装置です。 T6 超高温運転に対応し、最高温度は 600℃ です。 PID 精密制御アルゴリズムを採用しています。 温度制御精度は ±0.1℃ です。 温度分布の均一性は ±2.0% です。 極限の温度環境でも大型試料の熱的一貫性を確保します。

安勝 ESC-LCO4500-T5 無塵・無酸化オーブン は、車載 HUD レンズ、大型光電子部品、半導体の大量生産向けに設計された4500L のフラッグシップ超大型精密装置です。 T5 高温運転に対応し、最高温度は 500℃ です。 超大容量の空間で高い精度を実現します。 PID 精密制御アルゴリズムを採用しています。 温度制御精度は ±0.1℃ です。 温度分布の均一性は ±2.0% です。

安勝 ESC-NO150-T6 窒素オーブン は、パワー半導体、新エネルギー関連試料のアニール、精密電子部品向けに設計された150L の拡張型高精度熱処理装置です。 T6 超高温運転に対応し、最高温度は 600℃ です。 PID 精密制御アルゴリズムを採用しています。 温度制御精度は ±0.1℃ です。 温度分布の均一性は ±2.0% です。 無酸素環境でも高感度試料の熱的一貫性を確保します。

安勝 ESC-NO270-T6 窒素オーブン は、通信モジュールの大規模生産、車載電子機器の高温試験、宇宙航空用精密部品の熱処理向けに設計された270L の産業用汎用精密装置です。 T6 超高温運転に対応し、最高温度は 600℃ です。 PID 精密制御アルゴリズムを採用しています。 温度制御精度は ±0.1℃ です。 温度分布の均一性は ±2.0% です。 無酸素環境でも高付加価値の加工品の熱的一貫性を確保します。