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安勝 ESC-NVO216-T6 窒素導入真空オーブン は、半導体 IGBT のパッケージングおよびパワーモジュールの硬化向けに設計された中・大型装置です。 超高温運転に対応し、最高温度は 600℃ です。 チャンバー容積は 216L です。 温度制御精度は ±0.5℃ です。 中核技術は、15分以内に酸素濃度を 20ppm 未満へ下げる急速酸素低減と、熱衝撃を解消する窒素予熱システムです。酸化欠陥を防止し、高い温度分布の均一性を確保します。 精密な窒素節約バルブを装備し、運用コストを 25% 削減できます。 データの監査追跡に対応し、改ざんできない温度・圧力の履歴記録をワンクリックで出力できます。研究と試作生産に安全で理想的な、全工程を追跡できる熱処理環境を提供します。

安勝 ESC-NVO27-T6 は、実験室の精密熱処理向けに設計された 27L の卓上型窒素導入真空オーブンです。 最高 600℃ の超高温運転と ±0.5℃ の温度制御精度を実現します。パージ式酸素低減システムにより、15分以内に酸素濃度を 20ppm 未満へ下げ、微量試料の酸化を防ぎます。スマート管理、多段階の権限制御、改ざんできない履歴の出力により、生産の安全性と追跡性を確保します。小型設計と優れた温度分布性能を備え、特殊セラミックの精密焼結などの研究開発に適しています。

安勝 ESC-NVO343-T6 窒素導入真空オーブン は、宇宙航空および産業用の精密製造向けに設計された343L の汎用熱処理装置です。 超高温運転に対応し、最高温度は 600℃ です。 温度制御精度は ±0.5℃ です。 中核技術として 15分以内に酸素濃度を 20ppm 未満へ急速に下げる機能と窒素予熱システムを備え、酸化を防止し、熱応力を解消します。 故障の自己診断と自動圧力解放の連動機能を備え、バッチ作業の効率と安全性を大幅に高めます。 改ざんできない生産記録をワンクリックで出力でき、データの真正性と追跡性を確保します。高付加価値試料に理想的で適合性要件を満たす温度環境を提供します。

安勝 ESC-NVO512-T6 は通信モジュールの量産向けに設計され、512L の大容量と 600℃ の温度制御能力を備えています。急速酸素低減（<20ppm）と強制送風により、大型チャンバーの温度分布を高い一貫性に保ちます。権限の階層管理と記録の出力に対応し、半導体・医薬品業界の高水準なデジタル管理要件に応えます。