ESC-IGO100-T6

產品與製程定位

ESC-IGO100-T6 無氧化烘箱供半導體固化、感測器封裝與材料研發評估氣氛控制熱處理。規格列出不同工作腔配置、氮氣系統及選配量測配備。訂購時需明確選定工作腔數與有效裝載方式，避免將系列選項當作同一台設備的標準配備。

選型規格重點

項目	已發布規格
內箱尺寸	500*500*400 mm
工作腔	單腔/雙腔/四腔
工作溫度範圍	25~600 ℃
氮氣系統	氮氣過濾；浮子式流量計

系列選項與選配配件須按實際訂購配置確認。

適用製程與評估方向

對氧化敏感的製程，應以樣品處理前後的外觀或材料檢測結果，配合實際氧含量紀錄確認條件。多腔需求則可先交代各腔的批次安排與溫度控制需求，再確認配置及工作空間。

選型前應確認

• 需要單腔、雙腔或四腔，是否有不同批次的作業需求？
• 製程如何判定氧化狀態，是否需要氧含量分析儀？
• 是否需多點溫度監測、備援電源或快速降溫配置？
• 請提供現場電源電壓、頻率與相數，以便確認供電配置及介面。

相關應用與詢價

• 半導體封裝

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